分子束外延(MBE)是新发展起来的外延制膜方法,也是一种特殊的真空镀膜工艺。外延是一种制备单晶薄膜的新技术,它是在适当的衬底与合适的条件下,沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜的方法。该技术的优点是:使用的衬底温度低,膜层生长速率慢,束流强度易于精确控制,膜层组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。用这种技术已能制备薄到几十个原子层的单晶薄膜,以及交替生长不同组分、不同掺杂的薄膜而形成的超薄层量子显微结构材料。
原理
分子束外延的英文缩写为MBE,这是一种在晶体基片上生长高质量的晶体薄膜的新技术。在超高真空条件下,由装有各种所需组分的炉子加热而产生的蒸气,经小孔准直后形成的分子束或原子束,直接喷射到适当温度的单晶基片上,同时控制分子束对衬底扫描,就可使分子或原子按晶体排列一层层地“长”在基片上形成薄膜。
特点
(5)MBE是一个超高真空的物理沉积过程,既不需要考虑中间化学反应,又不受质量传输的影响,并且利用快门可以对生长和中断进行瞬时控制。因此,膜的组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。
应用
电话:010-80698356
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地址: 北京市朝阳区霄云路36号国航大厦1310室