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国内第一台Octoplus-O 400专业氧化物分子束外延(MBE)系统成功安装

      北京埃伯仪器有限公司于2016年4月在北京大学韩伟老师组完成了国内第一台Octoplus-O 400专业的氧化物分子束外延(MBE)系统安装,顺利完成调试验收!

      Octoplus-O 400是一个专业设计的,非常适合于氧化物薄膜沉积的MBE系统。特殊设计的差分抽气双气压区域系统非常适合加热源在氧气以及浓缩或非浓缩的臭氧环境中生长氧化物薄膜。它可以非常容易地调整适用于小的晶片及2英寸标准晶片。竖直分区式腔体设计可以装配先进的源炉(组件),从而实现精确地一层一层的分子束外延生长


  • 双气压区域设计,强差分抽气
  • 适合氧气以及浓缩或非浓缩的臭氧环境中生长氧化物薄膜
  • 耐臭氧的SiC样品加热,适用于2英寸标准晶片及以下尺寸的样品生长




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