分子束外延束源炉

高温束源炉-HTEZ

产品型号：HTEZ
产品描述：高温束源炉-HTEZ可加热至1900℃。HTEZ的加热效率高，温度测量控制重复性好，并且可以精确调节。钽灯丝的优化设计确保了加热稳定性，即使在极限温度下也可以具有很长的使用寿命。
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高温束源炉-HTEZ用于低蒸汽压的元素和化合物材料薄膜沉积，例如Fe，Cr，Ni，Co，Au，Ge等材料，以及表面科学分析和磁性或氧化物薄膜沉积。

产品特点：

安装法兰：DN40CF / DN63CF

真空内长度：220～400 mm

加热灯丝类型：钽丝加热

热偶：W5%Re / W26%Re( C型)

加热温度：最高1900℃(根据所选坩埚材料)

除气温度：最高1900℃(根据所选坩埚材料)

外部烘烤温度：250℃

冷却方式：集成水冷 / 独立冷屏

坩埚容量：1.5 / 10 / 35 cc

坩埚材料：Al₂O₃，BeO，Ta，W(根据要求其他材料)

选配：挡板

如有设备需求或技术咨询欢迎随时联系我们。

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