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分子束外延束源炉

  • 高温束源炉-HTEZ
高温束源炉-HTEZ

高温束源炉-HTEZ

  • 产品型号:HTEZ
  • 产品描述:高温束源炉-HTEZ可加热至1900℃。HTEZ的加热效率高,温度测量控制重复性好,并且可以精确调节。钽灯丝的优化设计确保了加热稳定性,即使在极限温度下也可以具有很长的使用寿命。
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高温束源炉-HTEZ用于低蒸汽压的元素和化合物材料薄膜沉积,例如Fe,Cr,Ni,Co,Au,Ge等材料,以及表面科学分析和磁性或氧化物薄膜沉积。


产品特点:

安装法兰:DN40CF / DN63CF

真空内长度:220~400 mm

加热灯丝类型:钽丝加热

热偶:W5%Re / W26%Re( C)

加热温度:最高1900(根据所选坩埚材料)

除气温度:最高1900(根据所选坩埚材料)

外部烘烤温度:250

冷却方式:集成水冷 / 独立冷屏

坩埚容量:1.5 / 10 / 35 cc

坩埚材料:Al2O3BeOTaW(根据要求其他材料)

选配:挡板


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