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分子束外延组件

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快速退火炉快速退火炉快速退火炉

快速退火炉

A500/A600集成式快速热处理系统是完整的可以自由摆放节约空间的桌面式热处理系统。该退火炉本身以及电源和控制硬件都放在了集成式3U盒子里。它和提供必要真空度(低于5mbar)的干式隔阂泵集成在一起。

我们有两种不同温度的型号。AO500模式可以适用于从室温到500的大多数应用。AO600模式可以升温至最高温度。它可以从室温升至600,并可以实现精确的温度控制和维持。

AO500/AO600为了精确加热小尺寸的半导体材料样品到500C/600并可以精确地控制而制造的。AO500/AO600应用于很多热处理过程,像半导体样品的快速热处理,电子器件合成,以及成分和温度对半导体的影响研究。

内置微型控制器可以设定电源和加热盘温度以及气体开关和真空泵启动。退火炉操作的所有所需功能都是直观的,并且可以通过箱体上的触摸屏显示设定。

为了得到干净的可重复的操作,并且为了避免样品在热处理过程中污染和氧化,可以在惰性气体(Ar,N2,等)或混合气体(H2/N2混合气体)氛围下或者真空(<5mbar)下进行操作。

样品的装载和取出可以通过移动退火炉上方的玻璃窗容易地完成。该玻璃窗也可以使光线容易地透过并接受。因此可以通过显微镜来观察退货过程中的样品。

加热盘是由AL2O3薄膜制造的。温度测量是通过PT100探测器得到的,它直接和加热器集成在一起。这种设计可以精确地控制温度并可以快速加热,决定了最小的温度误差,使得温度接收时非常低的热漂移。


集成型多功能桌面退火炉

每个应用都有具体的抽气、放气、加热、扩散、维持阶段,根据不同的需要有具体的过程。一体化微型控制器的内存可以存储10个用户程序,每个程序包含20步可自由设定的步骤。

AO500/AO600的接收器配备了额外的电子接口(额定电流1A,额定电压50V)可以应用于热处理过程中的原位电阻测量或者使用一体式接触探针测量样品的I-V特性。



应用:

快速热处理过程

欧姆接触方式

扩散过程

快速扩散至500C/600

程序控制软件通过触摸屏用户界面设置不同温度和压强范围

加热盘尺寸为15mm*30mm

6个接触式电子原位测量仪

真空,惰性气体或混合气体下操作

包含干式隔阂泵



应用:

AO500/AO600集成型快速热处理系统的经典应用如下:

一般的快速热处理样品过程

电子器件合成

样品热处理的扩散过程和相互扩散研究

混合影响的研究

温度稳定性的研究

材料合金过程


参数

温度范围

室温到500C(AO500)/600C(AO600)

温度波动

+/-1K(绝对值)

加热速度

50K/s(真空退火)

冷却速度

12K/s(气氛退火)

样品尺寸

12mm*12mm

操作压强最小值

5mbar

操作压强最大值

1.2bar abs (惰性气体,混合气体)

电源

230V/50Hz