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脉冲激光沉积组件

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脉冲激光沉积靶台

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自旋式靶台

自旋式靶台通过靶材的自转来保证灼蚀的均匀性。自转是由一个直流马达通过旋转馈通器来控制的。

根据不同需求,可选择几个靶材单独自转或是同时自转。

可以通过步进马达自动选靶,以实现多层膜自动化生长。


扫描式靶台

在扫描式靶台中,靶材可在水平和垂直方向进行扫描,从而使激光相对扫过靶材表面,但羽辉的位置以及角度相对于基片不发生改变,保证了沉积的稳定性。

在进行多次连续沉积实验的时,可以选择扫描靶材的不同区域。因此,靶材可以长时间使用,而不需要每次沉积后都打磨靶材表面,使靶材的损耗最小化。

相比于自旋式靶台,扫描式靶台可以根据不同的靶材调整扫描范围,可用于不规则形状的靶材。

扫描以及选靶均由电脑自动控制,可用于多层膜自动化生长实验。