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分子束外延组件

  • 晶圆级样品加热台-WH
晶圆级样品加热台-WH

晶圆级样品加热台-WH

  • 型号:WH
  • 产品描述:WH基片加热器或加热装置可以适用于不需要功能齐全的样品控制器的基片加热,例如某些不需要旋转或移动的基片加热。因此MBE公司提供了多种不同的基片加热器。 至于SH样品控制器使用标准的钨,钽,碳化硅,石墨加热器。根据要求也使用耐氧型或者定制的。
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WH基片加热器或加热装置可以适用于不需要功能齐全的样品控制器的基片加热,例如某些不需要旋转或移动的基片加热。因此MBE公司提供了多种不同的基片加热器。


特点:

法兰尺寸:CF150/CF200/CF250

加热器类型:W/Ta/SiC/C

基片加热温度:最高1200℃