分子束外延组件

晶圆级样品加热台-WH

型号：WH
产品描述：WH基片加热器或加热装置可以适用于不需要功能齐全的样品控制器的基片加热，例如某些不需要旋转或移动的基片加热。因此MBE公司提供了多种不同的基片加热器。至于SH样品控制器使用标准的钨，钽，碳化硅，石墨加热器。根据要求也使用耐氧型或者定制的。
在线订购

WH基片加热器或加热装置可以适用于不需要功能齐全的样品控制器的基片加热，例如某些不需要旋转或移动的基片加热。因此MBE公司提供了多种不同的基片加热器。

特点：

法兰尺寸：CF150／CF200／CF250

加热器类型：W／Ta／SiC／C

基片加热温度：最高1200℃

上一个：硅升华束源炉-SUSI 下一个：nextnano++半导体纳米器件模拟软件

电话：010-80698356

邮箱：Info@be-instruments.com

地址：北京市朝阳区霄云路36号国航大厦1310室