可以应用于多种材料蒸发，如Ag，Au，Al，Ni，Co，Fe等，以及有机材料蒸发。蒸发材料放在W坩埚内，将坩埚装载于旗形样品托上，蒸发源上端可以允许摆动夹钳机械手或者操控器拉出旗形样品托，进行快速的原位更换坩埚。
坩埚的填料容积是0.5cc，冷却循环水确保薄膜在低于10-9mbar气压下生长。蒸发源配备了手动挡板，以及C型热偶。
特点：
法兰尺寸：CF40；
真空腔体内长度：185 mm；
部件：旗形样品托及W坩埚，磁耦合挡板旋转；
水冷接头：G1/8转6 mm卡套接头；
可承受的最高烘烤温度：200℃；
埃伯仪器是专业的真空薄膜制备解决方案供应商，主要产品有分子束外延系统（MBE）、 脉冲激光沉积系统（PLD)、 反射式高能电子衍射仪（RHEED)、蒸发源、 电子枪、离子枪等！
