多口热蒸发源

多口热蒸发源设计紧凑，通过一个法兰口可实现多种材料的生长或掺杂，适用于法兰口有限的腔体。可用于有机材料或者金属蒸发，如Au，Ag，Bi，Ga，In等。

- 温度范围：~1400℃

- 坩埚容量：0.6~10 cc

- 双坩埚、四坩埚，或多坩埚定制

点击可查看更多“产品分类‍”‍

直达具体产品分子束外延系统（MBE）、 脉冲激光沉积系统（PLD)、 反射式高能电子衍射仪（RHEED)、蒸发源、 离子源‍、电子枪