原子氢源HABS：III-V族衬底表面低温清洗
原子氧源OBS：氧化物薄膜的生长，表面清洗
微波等离子体源
- 功率：5-20 W/2.5 GHz
- 气体流量：1-10 sccm
- 适用气体：N2, H2, O2
- 应用：表面清洗，氧化物和氮化物材料的制备
氧原子源-OBS是一种热模式的气体裂解源，可以产生没有离子状态的H原子束流，可以有效避免离子轰击对衬底的影响。
特点：
氧原子裂解效率可达到：80%
原子氢密度高达10^15/s*cm2
没有高能粒子和离子存在
低功耗
集成水冷
氢原子源-HABS是一种热模式的气体裂解源，可以产生没有离子状态的H原子束流，可以有效避免离子轰击对衬底的影响。
产品特点：
氢原子裂解效率可达到：80%~98%
原子氢密度高达10^16/s*cm2
没有高能粒子和离子存在
低功耗：< 200 W
集成水冷
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直达具体产品分子束外延系统（MBE）、 脉冲激光沉积系统（PLD)、 反射式高能电子衍射仪（RHEED)、蒸发源、 离子源、电子枪
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