基于于团队成员的多年研发经验，我们发展和制造了分子束外延系统（MBE）、OCTOPLUS 500 MBE系统及各种功能的源炉。每个产品都是由MBE专业人才进行组装和测试的。
OCTOPLUS 500 MBE系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的III/V族或者II-VI族异质结构材料而研发的。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。OCTOPLUS 500 MBE系统是公认的非常适合于III/V族， II/VI族或其他异质结构材料生长应用研发与生产。
OCTOPLUS 500 MBE系统的主要特点是极高的可靠性和普适性。标准的Octoplus 500有11个呈放射状分布的源孔，可以根据需要增选3个源孔。快速抽真空进样室配有水平磁力杆传输系统，可以在不破坏MBE腔室真空的前提下，简便地进行样品传输。
腔体尺寸： 550 mm ID，液氮冷屏（兼容水冷）
本底真空： < 5 × 10-11 mbar
样品尺寸： 最大4 英寸，向下兼容小尺寸样品
加 热 器： SiC，W等多种类型可选，最高温度达1500 ℃
源炉法兰： 12 × DN63CF
应用领域： III-V, II-VI
OCTOPLUS 500 MBE系统的的主要参数规格：
● ID 550 mm
● 应用于III/V族， II/VI族或其他异质结构材料
● 最大6英寸晶片，或7x2英寸晶片
● 进样室和缓冲腔室
● 线性样品传输系统
● 标准法兰孔数目(标准11个，可按要求增加3个)
● 束流源，气体源，样品台
● 抽真空系统(离子吸附泵，分子泵，低温泵等)
● 原位表征能力
● 软件/硬件控制系统
● 额外要求可定制
我们非常乐意一起讨论MBE的参数规格并给出相应的合理建议。如有问题或需要详细的参数规格说明，请联系我们的销售部门。
如果您有任何设备需求或技术咨询，欢迎随时联系我们
点击可查看更多“产品分类”
直达具体产品分子束外延系统（MBE）、 脉冲激光沉积系统（PLD)、 反射式高能电子衍射仪（RHEED)、蒸发源、 离子源、电子枪
