分子束外延系统（MBE）OCTOPLUS 300是一款多用途且功能完善的紧凑型MBE系统，非常适合小尺寸样品的薄膜材料生长。设计虽然紧凑，但是可以装配多个不同种类源炉，实现各种材料的外延薄膜生长。
腔体尺寸： 350 mm ID，液氮冷屏
本底真空： < 8 × 10-11 mbar
样品尺寸： 最大2 英寸，向下兼容小尺寸样品
加 热 器： SiC，W等多种类型可选，最高温度达1500 ℃
源炉法兰： 8× DN63CF
应用领域： 拓扑绝缘体，金属，二维材料（金属硫化物／硒化物）等
产品特点：
● 紧凑型专业MBE设计
● 应用于III/V族， II/VI族，金属，磁性材料，拓扑绝缘体，二维材料等
● 最大2 英寸样品，并向下兼容
● 8个标准的CF法兰
● 专业液氮冷屏设计
● 多种样品台加热器（Option）
● 样品台液氮冷却（Option）
我们可以根据客户需求，提供不同种类的蒸发源，包括K-cell、电子束蒸发源、热裂解源、阀式裂解源、气体裂解源等。可以使用石英晶振，反射式高能电子衍射仪(RHEED)或者四极杆质谱仪实现样品生长的原位监测。
如有设备需求或技术咨询欢迎随时联系我们。
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直达具体产品分子束外延系统（MBE）、 脉冲激光沉积系统（PLD)、 反射式高能电子衍射仪（RHEED)、蒸发源、 离子源、电子枪
