脉冲激光沉积激光式加热器

‍脉冲激光沉积系统（PLD)激光加热-最高＞1100°C

激光加热是通过一个聚焦的红外激光束辐照样品托或是基片的背面，以实现快速加热。

该系统包括三部分：第一部分是样品托，主要用于装载基片，可以通过进样室传递。第二部分是样品架，主要用于固定样品托（该样品架同样可以兼容电阻加热器）。第三部分是激光器以及光学组件，采用高功率的二极管激光器，激光束通过光学组件聚焦到样品托的背部。

该加热器主要优点是：加热温度高，可快速升温、降温，可承受更高的氧分压。同时它是一种最“清洁”的加热方式，可保证良好的真空环境。

您也可以查看电阻式加热器和辐射式加热器。