HEX桌面式薄膜溅射沉积系统
Korvus Technology Ltd. 致力于开发制造模块化小型薄膜制备镀膜，特别适用于科研训练和实验室基本镀膜应用，例如，金属电极制备，新型薄膜开发等；
主要特点：
- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合
- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术
- 适用于科研训练和新型薄膜沉积
- 可与手套箱集成
- 占地面积小
主要配置和性能指标：
1. 快速拆换的六块独立板面形成的腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)
2. 系统节约实验室空间，占地约1m2，腔体尺寸：65 cm * 60 cm * 70 cm，重约50 kg
3. 快速 (20分钟内达到 5*10-6Torr)
4. 4英寸及以下尺寸样品台 (可选配 2-20 rpm旋转、500℃加热，水冷、直流偏压)
5. 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源
6. 可集成膜厚测量功能，手套箱系统，以及各种定制功能
7. 自动操作软件控制（选配）
8. 可配备快速进样腔（选配）
9. 原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振
两种型号可选：
| HEX | HEX-L |
| 最大样品尺寸 | 4英寸 | 6英寸 |
| 分子泵 | 80 l/s | 300 l/s |
| 分子泵选配 | 300 l/s | 700 l/s |
| 侧面板数量 | 6 | 6 |
| 最多沉积源数量 | 3(算上QCM) | 6 |
| 兼容沉积源 | 磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发 | 磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发 |
应用领域：
化学催化
电极薄膜制备
金属半导体薄膜制备
磁性薄膜制备
微纳米器件
光学器件
埃伯仪器是专业的真空薄膜制备解决方案供应商，主要产品有分子束外延系统（MBE）、 脉冲激光沉积系统（PLD)、 反射式高能电子衍射仪（RHEED)、蒸发源、 电子枪、离子枪等！
如有设备需求，欢迎随时联系我们。
